射頻電源
產品概述
關鍵特性
v 先進高(gao)效率、高(gao)穩定性射頻(pin)功放(fang)技(ji)術
v 全數字控制，高(gao)穩定度和高(gao)可靠(kao)性
v 穩定可靠的(de)功放和(he)直流控制模塊
v 具有駐波(bo)保護功能(neng)，能(neng)在(zai)負載出現異常后快速(su)啟動
v 輸出功率余量(liang)大，可長(chang)期穩定(ding)的(de)工作(zuo)
v 具有(you)精確(que)的功率測量功能，能精確(que)的測量入射和(he)反射功率
v 具(ju)有自動(dong)增益控制，能精準的控制輸出功(gong)率
v 支持本地控制和遠(yuan)程控制，遠(yuan)程控制采用RS232和RJ45網口
v 采(cai)用先進(jin)的功(gong)放技術，輸出(chu)(chu)功(gong)率可(ke)從1%至最大輸出(chu)(chu)功(gong)率連續可(ke)調
v 2kW及以上(shang)采用(yong)7寸(cun)觸(chu)控屏，操作(zuo)直(zhi)觀，簡單
v 模(mo)塊化結(jie)構設計，安裝維(wei)修方(fang)便，節省空間，結(jie)構外形美(mei)觀(guan)，大方(fang)
v 支持(chi)實時功率和(he)負載阻抗測量
v 支持(chi)連續(xu)工作模式(shi)、脈沖工作模式(shi)
v 能(neng)通過掃頻實現自動匹配(pei)功能(neng)
v 工作頻率：13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz
v 輸出功率：1kW、2kW、3kW、5kW、6kW、8kW、10kW
商業應用
應用領域及行業：
光伏產業、化工業、制造業、平板顯示器行業、半導體行業、科學研究等
等離子體清洗、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、等離子體刻蝕、射頻離子(zi)源、等(deng)離子(zi)體(ti)擴散、等(deng)離子(zi)體(ti)聚合濺(jian)射、薄(bo)膜沉(chen)積、硅晶鍍膜等(deng)
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